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                      首頁 > 產品中心 > 氮化鎵(GaN)代工

                      刻蝕

                      產品詳情
                      堿性腐蝕 KOH,TMAH
                      酸性腐蝕 HF,BOE,HCI,HNO3等
                      光刻膠剝離 Acetone,IPA
                      電感耦合等離子刻蝕 GaN,GaAs,InP
                      深硅刻蝕DRIE 刻蝕均勻性<±5%,選擇比>50:1
                      深氧化硅刻蝕 石英,玻璃,硅,刻蝕形貌:90°±1°
                      離子束刻蝕 用于較難刻蝕的金屬或其他物質
                      反應離子刻蝕 Si,SiO?,SiNx
                      灰化 光刻膠,聚合物


                      案例展示

                      RIE of InP waveguide 7um polyimide   BOSCH工藝

                      Deep Si etch SOI Notch Free 

                      SOI Notch Free

                       

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